Zastupljene su tri vrste anodne oksidacije i to: U sumpornoj kiselini U hromnoj kiselini Tvrda anodna oksidacija Ukupna zapremina elektrolita za anodnu oksidaciju je 8400 l. Maksimalna dužina dela koji se eloksira je do 1m.

Proces anodne oksidacije u H₂SO₄ se primenjuje gde se zahteva otpornost na koroziju,otpornost na koncentrovani vodonik peroksid, za obezbeđivanje dobre adhezije boja,lakova i sličnih premaznih sredstava, kao i u dekorativne svrhe.

Proces anodne oksidacije u H₂SO₄ se ne primenjuje na sklopovima, odlivcima (osim onih koji sadrže više od 7% silicijuma), delovima sa zavarenim ili zakovanim spojevima, delovima složene konfiguracije koja onemogućava normalan protok elektrolita, delovima izloženim habanju i Al limovima tanjim od 0.25mm.

Proces anodne oksidacije iz CrO₃ se primenjuje gde se zahteva dobra otpornost na koroziju, minimalni gubitak jačine na zamor, za otkrivanje pukotina u materijalu, za delove složene konfiguracije, delove koji dolaze u kontakt sa eksplozivnim materijama, za obradu delova čiji su zidovi debljine manje od 1mm, za obradu odlivaka koji sadrže ispod 7% silicijuma, kao veznu površinu za plastične materijale, kao podlogu za organske premaze, u kombinaciji sa tvrdom anodnom oksidacijom i za obradu zavarenih i zakovanih aluminijumskih sklopova.

Proces anodne oksidacije iz CrO₃ se ne primenjuje na sklopovima koji sadrže nealuminijumske elemente (npr. čelika, legure bakra, organskih materijala), kao i na delovima koji se drže pod pritiskom (npr. u savijenom i jako uvijenom položaju).

Proces tvrde anodne oksidacije se primenjuje tamo gde se zahteva povećana površinska tvrdoća, na kliznim površinama delova radi smanjenja trenja i povećanja otpornosti na habanje, za povećanje otpornosti na abraziju i  za povećanje korozione otpornosti.

Proces tvrde anodne oksidacije se ne primenjuje na legurama koje sadrže više od 2% bakra i više od 7% silicijuma ili više od 8% ukupno legirajućih elemenata, na delovima koji se drže pod pritiskom, na delovima koji su izloženi zamoru, na delovima od aluminijumskog lima tanjeg od 1 mm, na delovima koji sadrže zavarene ili zakovane spojeve kao i na delovima koji sadrže nealuminijumske elemente (npr. od čelika, legure bakra, organskih materijala itd.)

Tehnološki postupak tvrde anodne oksidacije je isti kao kod anodne oksidacije u sumpornoj kiselini, ali režimi rada i koncentracije  su drugačiji. Ovaj sloj se hemijski ne boji za razliku od sloja dobijenog procesom anodne oksidacije iz H₂SO₄.